基于紫外光刻的?掩模激光直寫光刻設備，?于晶圓級2D/2.5D微納結構加?。 設備小巧緊湊型設計，無需掩模版，具備高直寫速度、高分辨率等特點。采用集成化設計，全自動控制，操作簡便，適合實驗室科研需求及快速加工、建?；蛐∨可a。廣泛應用于微流控、半導體、生物技術和微電子等研究領域。